概要
開催日時
2026年10月22日(木) 13:00〜17:35
開催場所
東京科学大学 横浜キャンパス 大学会館(H2棟)3階 多目的ホール および オンライン(Zoomウェビナー)
対象者
どなたでもご参加いただけます
定員
会場参加:300人/オンライン参加:500人
参加費
無料
申し込み方法
会場参加の方は、参加申込みは不要です。直接、横浜キャンパスにお越しください。
オンライン参加の方は、下記フォームよりご登録ください。
東京科学大学、名古屋工業大学、ファインセラミックスセンター、産業技術総合研究所、物質・材料研究機構の合同講演会のテーマを「次世代社会を支えるセラミックス材料技術の新展開」と題して、開催します。
たくさんの方のご参加をお待ちしております。
プログラム
テーマ 「次世代社会を支えるセラミックス材料技術の新展開」
- 13:00〜13:05
- 開会挨拶:東京科学大学 総合研究院 フロンティア材料研究所・所長 原 亨和
- 13:05〜13:55
- 座長 平松 秀典(東京科学大学)
「焼結プロセスにおけるセラミックスの微構造形成と部材変形のシミュレーション」
ファインセラミックスセンター 材料技術研究所 先進プロセス設計グループ
上級研究員 寺坂 宗太
「透過電子顕微鏡を用いたパワー半導体中の転位構造評価」
ファインセラミックスセンター ナノ構造研究所 電池材料解析グループ
主任研究員 菅原 義弘
- 13:55〜14:45
- 座長 大瀧 倫卓(ファインセラミックスセンター)
「マルチフェロイックCo置換BiFeO3の電場による磁化反転制御と次世代磁気メモリデバイスへの応用」
東京科学大学 総合研究院 フロンティア材料研究所 特定助教/神奈川県立産業技術総合研究所
研究員 重松 圭
「新規透明導電体の探索と電子構造解析」
東京科学大学 総合研究院 フロンティア材料研究所
助教 半沢 幸太
- 14:45〜15:05
- 休憩
- 15:05〜15:55
- 座長 嶋村 彰紘(産業技術総合研究所)
「超高圧合成法を活用したセラミックス開発 -ナノ多結晶体、透明材料、硬質材料、変態強化セラミック-」
物質・材料研究機構 ナノアーキテクトニクス材料研究センター 超高圧材料創製グループ
グループリーダー 西山 宣正
様々な解析技術で探るSiC系CMCの損傷・破壊メカニズムとマテリアルデザイン
物質・材料研究機構 構造材料研究センター セラミックス基複合材料グループ
主任研究員 下田 一哉
- 15:55〜16:45
- 座長 藤 正督(名古屋工業大学)
セラミックス/樹脂複合材料の設計による低誘電・低損失特性の制御
産業技術総合研究所 化学プロセス研究部門 機能材料プロセス研究グループ
グループ長 阿多 誠介
Prediction of Bending Strength in Sintered Alumina Based on Microstructural Analysis
産業技術総合研究所 マルチマテリアル研究部門 構造セラミック研究グループ
研究員 Minh Chu NGO
- 16:45〜17:35
- 座長 鈴木 達(物質・材料研究機構)
「環境調和型の新規な着色無機顔料」
名古屋工業大学 工学研究科 工学専攻 環境セラミックスプログラム
助教 岡 亮平
「酸素欠損型層状ペロブスカイト化合物の結晶構造解析」
名古屋工業大学 工学研究科 工学専攻 環境セラミックスプログラム
准教授 漆原 大典
※会場参加の方は、講演会終了後、ラウンジ(H1棟3F)にて意見交換会を開催いたしますので、ご希望の場合、会費3,000 円(仮)をお釣りのないようご用意ください。19:30終了。
主催
東京科学大学/名古屋工業大学/一般財団法人 ファインセラミックスセンター/国立研究開発法人 産業技術総合研究所/国立研究開発法人 物質・材料研究機構 合同講演会委員会